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什麽是LPCVD?

日期:2021-01-14 02:58
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摘要:
LPCVD--Low Pressure Chemical Vapor Deposition 低壓力化學氣相沉積法廣泛用於氧化矽、氮化物、多晶矽沉積,過程在管爐中執行,要求也相當高的溫度。
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