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真空鍍膜技術的發展趨勢

日期:2021-01-17 07:12
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摘要:
     真空泵維修 ,蒸發,濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物**相沉積法,是基本的薄膜製備技術。它們都要求澱積薄膜的空間要有一定的真空度。所以,真空技術是薄膜製作技術的基礎,獲得並保持所需的真空環境,是鍍膜的必要條件。
真空係統的種類繁多。在實際工作中,必須根據自己的工作重點進行選擇。典型的真空係統包括:獲得真空的設備(真空泵),待抽空的容器(真空室),測量真空的器具(真空計)以及必要的管道,閥門和其它附屬設備。
     科技發展愈來愈快,信息高速公路,數字地球等新概念的提出,影響和帶動了全球高科技的發展,目前,生命科學,環保科技,材料科學和納米科技使高科技重點研究的領域;納米科技中又以納米電子學為優先研究領域。
     目前計算機和信息技術的基礎使超大規模繼承電路;但下個世紀的基本元件將是納米電子集成電路。它是微電子器件的下一代,有自己的理論,技術和材料。現有微電子器件的主要材料是極純的矽,鍺等晶體半導體。納米電子器件有可能是以有機或無機複合晶體薄膜為主要原理,要求純度更高,結構更完善。真空製備的清潔環境,有希望加工組裝出納米電子器件所要求的結構。
     總之,表麵和薄膜科學,微電子器件及納米技術等迅速發展,將使一起開發和檢測方法體係研究成為真空鍍膜技術中的發展重點;而電子束蒸發源將是真空鍍膜技術中的一種重要的加熱方法和發展方向。

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